聚焦离子束电子束双束显微镜
DB550
 

DB550 是一款追求极致产出效能的纳米分析工具。它采用低电压高分辨电子镜筒与超级减速方案, 在极低电压下仍能保持亚纳米级成像解析。 核心升级的新一代 “承影 2.0” 离子镜筒, 以更优的低压分辨率与大束流表现,优化纳米加工的速率。 集成式的硬件体系与智能软件算法, 为您打造优雅全能的微纳分析与加工中心, 显著提升产出效率。

低压高分辨电子镜筒
“承影”2.0镜筒
丰富的扩展能力
集成式气体注入器
集成式纳米机械手
快速换样仓(最大8寸)
产品优势
高压隧道技术和无漏磁物镜的电子镜筒,高分辨率成像,兼容磁性样品
“承影”离子镜筒,高稳定、高质量的离子束流,用于高质量纳米加工和TEM制样
样品仓内压电陶瓷驱动的机械手,集成式控制方式,操作精准到位
自主可控,扩展性强,集成化设计的离子源更换时间快,极致的售后服务
技术介绍
"承影"离子镜筒
技术特点
分辨率:2.5 nm@30 kV
探针电流:1 pA~100 nA
加速电压范围:500 V~30 kV
使用寿命:≥1000小时
长时间稳定性:72小时不间断工作
纳米机械手
技术特点
集成式控制方式
离子束-电子束协同
气体注入器
单气体注入
多种气源可选
伸缩距离≥35 mm
重复定位精度≤10 um
加热温度控制精度≤0.1℃
加热温度范围:室温~90℃
集成式控制方式
应用案例
28nm Cu制程芯片 Top view
Al制程截面
PCB 截面大尺寸切割
SiC 掺杂
纳米机械手提取样品
三元材料截面
石墨颗粒截面
太阳能光伏银线截面
钛金周薄片中的增强相
陶瓷材料截面
铁素体马氏体钢(微磁)DB500 电子像
铁素体马氏体钢原子像(STEM-HAADF)
透射制样
原位加热EBSD样品制备
原位拉力样品制备
原位透射拉力样品制备
原位压力样品制备
质子交换膜截面
产品参数
电子束系统 电子枪类型 高亮度肖特基场发射电子枪
分辨率

1.4 nm@1 kV,0.9 nm@15 kV

1.3 nm @ 1 kV(with TD),
1.2 nm@1.0 kV*

1.9 nm@200 V(with TD),
0.7 nm@15 kV*

加速电压 20 V ~ 30 kV
离子束系统 离子源类型 液态镓离子源
分辨率

2.5 nm@30 kV

100 nm@1 kV

加速电压 500 V ~ 30 kV
样品室 真空系统 全自动控制,无油真空系统
摄像头 三摄像头
(光学导航+样品仓内监控x2)
样品台类型 五轴机械优中心样品台
样品台行程 X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm
T: -38°~70°,R: 360°
X=150 mm,Y=150 mm,Z=65 mm
T: -10°~70°,R: 360°(可选)
探测器和扩展 标配 镜筒内电子探测器(Inlens)
旁侧二次电子探测器(ETD)
选配 插入式背散射电子探测器(BSED)
插入式扫描透射探测器(STEM)
能谱仪(EDS)
背散射衍射(EBSD)
纳米机械手
气体注入器
等离子清洗
样品交换仓
轨迹球&旋钮控制板
软件 语言 中文
操作系统 Windows
导航 光学导航、手势快捷导航
自动功能 自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散
电子束系统
电子枪类型 高亮度肖特基场发射电子枪
分辨率 1.2 nm@15 kV
加速电压 20 V ~ 30 kV
离子束系统
离子源类型 液态镓离子源
分辨率 3 nm@30 kV
加速电压 500 V ~ 30 kV
样品室
真空系统 全自动控制,无油真空系统
摄像头 三摄像头
(光学导航+样品仓内监控x2)
样品台类型 五轴机械优中心样品台
样品台行程 X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm
T: -10°~+70°,R: 360°
探测器和扩展
标配 镜筒内电子探测器
旁侧二次电子探测器(ETD)
选配 插入式背散射电子探测器(BSED)
插入式扫描透射探测器(STEM)
能谱仪(EDS)
背散射衍射(EBSD)
纳米机械手
气体注入器
等离子清洗
样品交换仓
轨迹球&旋钮控制板
软件
语言 中文
操作系统 Windows
导航 光学导航、手势快捷导航
自动功能 自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散

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