HEM6000是一款可实现跨尺度大规模样品成像的高速扫描电子显微镜。
采用高亮度大束流电子枪、高速电子偏转系统、高压样品台减速、动态光轴、浸没式电磁复合物镜等技术，实现了超快的数据采集和成像速度，同时保证了纳米级分辨率。
面向应用场景的自动化操作流程设计，使得大面积的高分辨率图像采集工作更高效、更智能。成像速度可达常规场发射扫描电镜的5倍以上。
驻点时间10 ns/pixel，
最快采集速度2*100 M pixel/s
SE/BSE信号自由切换，
MIX成像信号比例可调
可实现高分辨大场模式，
4 nm像素点最大视场达64*64 um²
降低入射电子落点电压，
同时提高回收电子的收集效率
物镜磁场浸没样品
实现了低像差高分辨率
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 BSE 3500 120ns.png)
| 指标 | HEM6000 | 常规场发射扫描电镜 |
| 像素尺寸(单张) | 12288*12288 | |
| 像素点时间 | 40 ns（点/行/帧平均数：2/2/1） | 800 ns |
| 像素大小 | 16 nm | |
| 拍摄总面积 | 2 .62mm² | |
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拍摄总时间 |
21分34秒 | >190分 |
| 关键参数 | 分辨率 | 1.3nm@3 kV，SE ; 1.5nm@1 kV，SE | |
| 1.9nm@ 3 kV, BSE; 2.3nm@ 1 kV, BSE | |||
| 0.9nm@30kV，STEM | |||
| 加速电压 | 100 V~6 kV(减速模式) | ||
| 6 kV~30 kV(非减速模式) | |||
| 放大倍率 | 66~1,000,000x | ||
| 电子枪类型 | 高亮度肖特基场发射电子枪 | ||
| 物镜类型 | 浸没式电磁复合物镜 | ||
| 偏转系统 | 静电偏转器 | ||
| 样品装载系统 | 真空系统 | 全自动控制，无油真空系统 | |
| 样品监控 | 样品仓监控水平摄像头； 换样仓监控垂直摄像头 | ||
| 样品最大尺寸 | 直径4英寸 | ||
| 样品台 | 类型 | 电机驱动3轴样品台（*可选配压电驱动样品台） | |
| 行程 |
X、Y轴：110mm； Z轴：16mm； |
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| 重复定位精度 |
X轴：±0.6μm； Y轴：±0.3μm； |
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| 换样方式 | 全自动控制 | ||
| 换样时间 | ＜15 min | ||
| 换样仓清洗 | 全自动控制等离子清洗系统 | ||
| 图像采集与处理 | 驻点时间 | 10 ns/pixel | |
| 图像采集速度 | 2*100 M pixel/s | ||
| 图像大小 | 24K*24K | ||
| 探测器和扩展 | 标配 | 镜筒内混合电子探测器 | |
| 选配 | 低角度背散射电子探测器 | ||
| 镜筒内高角度背散射电子探测器 | |||
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明场透射电子探测器 |
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| 高角/中角/底角暗场透射电子探测器 | |||
| 压电驱动样品台 | |||
| 高分辨大场模式 | |||
| 样品仓等离子清洗系统 | |||
| 6英寸样品装载系统 | |||
| 主动减震台 | |||
| AI降噪；大图拼接；三维重构 | |||
| 软件 | 语言 | 中文 | |
| 操作系统 | Windows | ||
| 导航 | 光学导航、手势快捷导航 | ||
| 自动功能 | 自动样品识别、自动选区拍摄、自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散 | ||
